【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.10】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24TU0012
利用課題名 / Title
圧電MEMSデバイスの開発
利用した実施機関 / Support Institute
東北大学 / Tohoku Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
セラミックスデバイス/ Ceramic device,CVD,MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
丸山 佑紀
所属名 / Affiliation
ミツミ電機株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
今野 弘樹
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
TU-155：SPPテクノロジーズ TEOS PECVD
TU-063：i線ステッパ
TU-062：コータデベロッパ
TU-205：アルバックICP-RIE#1
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
弊社開発中の圧電MEMSデバイスにおいて、圧電薄膜の狭ピッチ（Line/Space=0.5μm）パターニングが必要であるため、東北大学の設備を用いて微細パターニング実験を行った。
パターニング方法はハードマスクを用いたドライエッチングを検討した。
実験 / Experimental
【実験方法】
① 圧電薄膜付Φ6インチSi基板にハードマスク材となるTEOS-SiO2膜をTU-155/SSPテクノロジーズ/TEOS PECVDで成膜。
② ポジレジストTDMR-AR80をTU-062/Suss/コータデベロッパで塗布・現像、TU-063/キャノン/i線ステッパで露光（レチクルは東北大学様保有テストレチクルを借用）。
③ 自社保有ICP-RIEでTEOS-SiO2膜をエッチング
④ TU-205/アルバック/NE-550で圧電膜をエッチング
⑤ 自社保有SEMおよび線幅測定器で測長
結果と考察 / Results and Discussion
目標である圧電薄膜の狭ピッチ（Line/Space=0.5 µm）パターニングを行うためには、マスク寸法が0.9 µm必要であることが分かった。また、0.15 µm以下のパターニングは圧電薄膜がエッチングしきれず、残膜することが分かった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 Space(抜き)パターンにおけるマスク寸法と各実寸法の関係
図2 マスク寸法0.9 µmにおける圧電薄膜エッチング後断面SEM観察結果
図3 マスク寸法0.3 µmにおける圧電薄膜エッチング後断面SEM観察結果
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件