コータデベロッパ
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | TU-062 |
|---|---|
| 分類 |
成膜装置 > コーター（スピン、ディップ、スプレイなど） リソグラフィ > レジスト処理装置 表面処理・洗浄 > ウェット処理 |
| 設備名称 | コータデベロッパ (Coater developer) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | Suss (Suss) |
| 型番 | ACS200Gen3 |
| キーワード | ベーパーHMDS処理、レジスト塗布、ベーク、現像、スピン乾燥を自動処理 |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：2～8インチ カセットtoカセット HMDS処理、コート 3ライン、現像 2ライン、エッジリンス、バックリンス、ホットプレート 4セット、クールプレート 1セット |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TU-062 |
