SPPテクノロジーズ TEOS PECVD
最終更新日：2022年6月6日
| 設備ID | TU-155 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 化学蒸着(CVD)装置 |
| 設備名称 | SPPテクノロジーズ TEOS PECVD (SPP Technologies TEOS PECVD) |
| 設置機関 | 東北大学 |
| 設置場所 | 東北大学西澤潤一記念研究センター 2Fクリーンルーム |
| メーカー名 | SPPテクノロジーズ (SPP Technologies) |
| 型番 | APX-Cetus |
| キーワード | 通常TEOS SiO2、SiH4ベースSiO2専用 TEOS SiO2の低応力、厚膜成膜可能 SiON、SiNも可能 |
| 仕様・特徴 | サンプルサイズ：小片～8インチ 基板温度：350℃ |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TU-155 |
