【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.08】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24HK0086
利用課題名 / Title
TEM用液体セルチップMEMS微細加工
利用した実施機関 / Support Institute
北海道大学 / Hokkaido Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion
キーワード / Keywords
ダイシング/ Dicing,電極材料/ Electrode material,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,スパッタリング/ Sputtering,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
竹口 雅樹
所属名 / Affiliation
物質・材料研究機構
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
細井 浩貴,工藤 昌輝,松尾 保孝
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
HK-604：レーザー描画装置
HK-621：反応性イオンエッチング装置
HK-704：スパッタ装置
HK-705：ダイシングソー
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
自作液体セルを用いたTEMによってナノ材料やソフトマテリアルの高コントラスト観察や低ダメージ観察に関する技術開発を行っている。北大ARIMによる高品質微細加工技術による液体セルチップを製作し、我々が過去に試作したものと比較するとともに、将来的には北大ARIMの協力を得てセルチップの高度化も検討したい。
実験 / Experimental
昨年度同様、申請者が用意した低ストレスSiN膜付きSiウエハ(100)に対し、洗浄→ウィンドウパターン作製→ドライエッチング用マスク作製→ウェットエッチング→スペーサ＋ダイシング用マーク作製→チップ成形(ダイシング・リフトオフ・洗浄)の流れで液体セルチップの加工を実施した。昨年度はウインドウの幅が10ミクロン以下と短かったので今年度はもう少し大きくすることを目指した。
結果と考察 / Results and Discussion
ウエハの厚さが380 um±25 umであり、厚みが25 um変化すると、Siエッチング(KOH)で形成される穴は35 um変化することになる。そのためウインドウの幅をねらった通りに制御するためにはウエハの厚さをある程度精密に測定した上で設定する必要があることが分かった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件