【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24NM5164
利用課題名 / Title
欠陥内局所物性が創発するバルク力学機能に関する微視的・理論的研究
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
電子顕微鏡/ Electronic microscope,電子回折/ Electron diffraction
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
新津 甲大
所属名 / Affiliation
物質・材料研究機構
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
NM-502：実動環境対応電子線ホログラフィー電子顕微鏡
NM-510：FIB加工装置（JIB-4000）
NM-513：ピックアップシステム
NM-517：FIB/SEM精密微細加工装置（Helios 650）
NM-509：デュアルビーム加工観察装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
結晶中の格子欠陥にローカライズした物性を調査するため、透過型電子顕微鏡用の薄膜試料の方位出し、切り出し加工を行っていただいた。
実験 / Experimental
所望の結晶面に平行になるようにTEM試片を切り出しリフトアップした。TEM用メッシュ、その場加熱観察用のメッシュ等に試片を載せ厚さ約100nmまで薄膜化し、内部に導入されている格子欠陥の観察を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
転位の配向を電子回折により確認し、さらにそこに局在する特異な電子状態についてEELS,EDS等の分析により知見を得た。また4D-STEM法を活用することで結晶の集合組織の状態と歪分布の相関を明らかにすることができた。格子欠陥はローカルな物性の擾乱を引き起こすのみならず材料全体の物性や力学特性を左右する重要な要素であり、設備利用を通してこのような細緻な構造・物性について貴重な情報を得ることができた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
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K. Niitsu, Structural analysis of the LiCoO2 cathodes/garnet-type Li6.5La3Zr1.5Ta0.5O12 solid electrolyte interface, Solid State Ionics, 421, 116804(2025).
DOI: https://doi.org/10.1016/j.ssi.2025.116804
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Kenji Hirata, Enhancing the piezoelectric performance of nitride thin films through interfacial engineering, Materials Today, 83, 85-95(2025).
DOI: https://doi.org/10.1016/j.mattod.2024.12.011
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件