デュアルビーム加工観察装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | NM-509 |
|---|---|
| 分類 |
微小加工装置 > 集束イオンビーム（FIB） 走査型顕微鏡 > 走査型電子顕微鏡 |
| 設備名称 | デュアルビーム加工観察装置 (Dual Beam system) |
| 設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
| 設置場所 | NIMS千現地区 精密計測実験棟129号室 |
| メーカー名 | 日立ハイテクノロジーズ (Hitachi High-Technologies) |
| 型番 | NB5000 |
| キーワード | 電子顕微鏡薄片加工 Gaイオンビーム |
| 仕様・特徴 | ・FIB：加速電圧1~40 kV、最大電流50nA、倍率x600~ ・SEM：加速電圧0.5~30kV、分解能1nm@15kV, 倍率x250~ ・付属：マイクロサンプリング、STEM, EDS |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=NM-509 |
