利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.04.08】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24NM0078

利用課題名 / Title

ハイエントロピー合金のTEM試料作製と組織観察

利用した実施機関 / Support Institute

物質・材料研究機構 / NIMS

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

ハイエントロピー材料/ High entropy material,電子顕微鏡/ Electronic microscope,集束イオンビーム/ Focused ion beam


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

御手洗 容子

所属名 / Affiliation

東京大学 新領域創成科学研究科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

西宮ゆき

利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術代行/Technology Substitution(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NM-510:FIB加工装置(JIB-4000)
NM-503:200kV電界放出形透過電子顕微鏡(JEM-2100F1)
NM-509:デュアルビーム加工観察装置
NM-513:ピックアップシステム


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

ハイエントロピー合金の変形後の転位組織を観察することにより変形機構を明らかにする。またハイエントロピー合金に析出する微細析出物の組成を測定し、析出過程を明らかにする

実験 / Experimental

NIMSに設置されている集束イオンビーム装置(FIB加工装置)を用いて、透過電子顕微鏡による観察用試料を作製した。析出物の組成測定については、電界放出形透過電子顕微鏡とそれに付随するエネルギー分散型X線分光法(EDS)を用いて行った。ハイエントロピー合金の変形後の組織観察は。試料を持ち帰って所属機関の透過電子顕微鏡を用いて行った。

結果と考察 / Results and Discussion

変形組織は、転位が観察できなかった。 析出物の組成測定により、析出物と母相に対し、合金組成がどのように分配しているかが明らかとなった。また、析出物/母相の界面がBCC構造の{110}であることが明らかとなった。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
  1. ・TiAlV系合金のB2型析出物形成, 金属学会第175回講演大会(2024) 深代基生, 松永紗英, 御手洗容子
  2. ・TiAlV系合金のB2型析出物形成, チタン学会第4回講演大会(2024) 深代基生, 松永紗英, 御手洗容子
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:1件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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