【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.15】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24AT0195
利用課題名 / Title
トランスファープリンティングによる光回路集積
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
リソグラフィ/ Lithography,フォトニクスデバイス/ Nanophotonics device,走査プローブ顕微鏡/ Scanning probe microscope,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
村井 俊哉
所属名 / Affiliation
産業技術総合研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
山崎 将嗣,杉山 和義
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-006：マスクレス露光装置
AT-023：電子ビーム真空蒸着装置
AT-047：走査プローブ顕微鏡SPM_2[SPM-9600/9700]
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
産総研プラットフォームフォトニクス研究センターでは、強誘電薄膜を利用した次世代高速光変調器開発を行っている。開発する光変調器は、µトランスファープリンティングと呼ばれる薄膜の転写手法を用いて、光集積回路上に強誘電薄膜を接合して作製する。本事業を通して、(a)接合した薄膜への電極形成、および (b)薄膜の表面凹凸状態の観察(図１)を行った。
実験 / Experimental
(a)接合した薄膜への電極形成電極形成は次の手順で行った。1.電極形成はマスクレス露光装置を用いて電極パターンを形成 2.真空蒸着によりAu 600nmを成膜 3.リフトオフにより電極を形成 (b)薄膜の表面凹凸状態のAFM観察(図１) により接合する薄膜の表面粗さの観察を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
マスクレス露光装置＋真空蒸着を行った後に、リフトオフプロセスによって強誘電薄膜上に電極形成を行い、プローブに電圧を印加したところ、薄膜内に強い電界を印加できることを確認できた。また、AFMにより薄膜の表面粗さの観察(図１)を行い、接合に問題ないRa<1nmであることを確認した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１．強誘電薄膜の表面粗さ
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件