マスクレス露光装置
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | AT-006 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 (Maskless Lithography System) |
| 設置機関 | 産業技術総合研究所（AIST) |
| 設置場所 | AISTつくば中央 2-12棟 |
| メーカー名 | ナノシステムソリューション (Nano System-Solutions) |
| 型番 | DL1000 |
| キーワード | 光露光（マスクレス、直接描画）/ Optical exposure (maskless and direct drawing) 直接パターニング 405nm |
| 仕様・特徴 | ・型式:DL1000 ・試料サイズ:4インチφ、100mm□ ・光源:波長405nm(LED) ・露光最小画素:1μm□ ・最大露光領域:100mm□ ・重ね合わせ精度:±1μm |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=AT-006 |
