【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.01】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24AT0019
利用課題名 / Title
新材料デバイス技術
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
原子薄膜/ Atomic thin film,量子効果/ Quantum effect,リソグラフィ/ Lithography,エレクトロデバイス/ Electronic device,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,スパッタリング/ Sputtering
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
桜井 美穂
所属名 / Affiliation
産業技術総合研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
岡田直也,張文馨
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
郭 哲維,杉山 和義,渋谷直哉
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-006：マスクレス露光装置
AT-023：電子ビーム真空蒸着装置
AT-025：スパッタ成膜装置(芝浦）
AT-109：６インチ電子ビーム真空蒸着装置（アールデック）
AT-074：エックス線光電子分光分析装置(XPS)
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
遷移金属カルコゲナイド（MX2: M
= W, Mo, 等, X = S, Se, Te）は、数原子層の厚さでありながら高いキャリア移動度とバンドギャップを有し、
エレクトロニクス材料として有用である。本研究では、産総研ナノプロセシング施設の装置群を利用して、MoS2をチャネルに用いたトランジスタを試作した。
実験 / Experimental
NPFのマスクレス露光装置、電子ビーム真空蒸着装置、RF-DCスパッタ成膜装置(芝浦)、６インチ電子ビーム真空蒸着装置（アールデック）を用いて、
MoS2の上に金属電極を形成し、トランジスタを試作した。
結果と考察 / Results and Discussion
MoS2チャネルトランジスタを試作するに当たり、マスクレス露光装置でのパターニングを行い、電子ビーム蒸着装置にてNb、Ni、Auなどを蒸着、6インチ電子ビーム真空蒸着装置(アールデック)にてAuなどの蒸着を行い電極材料を形成した（図１）。その後、トランジスタの電気的特性を評価し、良好なトランジスタ特性を確認した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
本実験の遂行にあたり、産総研ナノプロセシング施設運営室 渋谷直哉氏には、AT-025：RF-DCスパッタ成膜装置（芝浦）について、
郭 哲維氏にはAT-023：電子ビーム真空蒸着装置について、技術的な支援や有益な助言を頂きました。深く感謝いたします。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件