【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.03.13】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24WS0501
利用課題名 / Title
β-Ga2O3への蒸着
利用した実施機関 / Support Institute
早稲田大学 / Waseda Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ベータ酸化ガリウム/ β-Ga2O3, 縦型トレンチ/ Vertical Trench,ワイドギャップ半導体/ Wide gap semiconductor,PVD,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
脇本 大樹
所属名 / Affiliation
株式会社ノベルクリスタルテクノロジー
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
星野 勝美
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本研究では酸化ガリウムを用いた現在よりもより微細なサブミクロントレンチ形状デバイスの基礎検討を行う。
実験 / Experimental
目的とするデバイス作製を行うにあたって、ベータ酸化ガリウムに微細な縦型トレンチを掘ったのちにトレンチ底面、側面共に電極材料を蒸着する必要がある。そこで、プラネタリーホルダーを有する電子ビーム蒸着装置(WS-002)を用いてCr蒸着を行い、トレンチ底面、側面へ蒸着可能か確認した。
結果と考察 / Results and Discussion
ベータ酸化ガリウムに微細な縦型トレンチ構造を形成した後に電子ビーム蒸着装置(WS-002)のプラネタリーホルダーを用いたCr蒸着を行った結果、図1に示すようにトレンチ底面と側面共に十分な膜厚かつ底面と側面間での断線がないCrが蒸着されていることを確認した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１ β-Ga2O3への蒸着概略図
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件