電子ビーム蒸着装置
最終更新日：2025年2月20日
| 設備ID | WS-002 |
|---|---|
| 分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
| 設備名称 | 電子ビーム蒸着装置 (Electron Beam Vapor Deposition system ) |
| 設置機関 | 早稲田大学 |
| 設置場所 | 早稲田大学121号館ナノテクノロジーリサーチセンター |
| メーカー名 | キヤノンアネルバ株式会社 (CANON ANELVA CORPORATION) |
| 型番 | EVC-1501 |
| キーワード | 配線材料専用 蒸着（抵抗加熱、電子線） |
| 仕様・特徴 | 試料サイズ ４インチ以下 Au, Cr, Ti専用 4インチウエハ18枚同時成膜可能（プラネタリーホルダー） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=WS-002 |
