【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.11】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24WS0481
利用課題名 / Title
ガラス製マイクロ流路の作製技術に関する研究
利用した実施機関 / Support Institute
早稲田大学 / Waseda Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
マイクロ流体デバイス,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,PVD,リソグラフィ/ Lithography,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,流路デバイス/ Fluidec Device,μTAS,電子顕微鏡/ Electronic microscope,走査プローブ顕微鏡/ Scanning probe microscope,光学顕微鏡/ Optical microscope,バイオセンサ/ Biosensor,におい・ガスセンサ/ Odor/gas sensor,ウエアラブルデバイス/ Wearable device,MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device,センサ/ Sensor
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
荒川 貴博
所属名 / Affiliation
東京工科大学 工学研究科 サステイナブル工学専攻
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
野﨑 義人
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
WS-016：レーザー直接描画装置
WS-002：電子ビーム蒸着装置
WS-007：ICP-RIE装置
WS-008：CCP-RIE装置
WS-006：プラズマアッシャー
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
半導体微細加工技術(MEMS)を用いた微細流路を用いた分析デバイスの開発を目指して、装置の利用を行った。光学特性や耐薬品性に優れるガラス基板に対し、流路幅が数十µm、流路深さ20 µmの作製を目指している。プロトタイプ流体デバイスの作製のため、早稲田大学の管理しているクリーンルーム内の装置を活用して、基礎的な実験を実施した。今後、目的のマイクロ流体デバイスの作製のため、各装置の条件出し等を進め、さらに研究を推進していきたい。
実験 / Experimental
実験では、微細パターン形成のためのレーザー直接描画装置（WS-016）、金属マスク形成のための電子ビーム蒸着装置（WS-002）、ガラスエッチングによる流路形成のためのICP-RIE装置（WS-007）の利用を行った。また、O2プラズマによるレジスト変質層除去のためにプラズマアッシャー（WS-006）及びCCP-RIE装置（WS-008）の利用を行った。プロトタイプ流体デバイスのため、すでに各装置で利用されている実験条件を利用して評価を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
流路パターン作成のため、レーザー直接描画装置を用いたパターンニングの評価を行い、10 µmの目的のパターン形成を確認した。流路をエッチングにより形成するための金属マスクについては電子ビーム蒸着装置を利用して成膜方法の確認を行った。ICP-RIE装置によるガラス基板へのエッチングについて、装置トレーニングを行い、その可能性を確認した。今後、目的のマイクロ流体デバイスの作製のため、各装置の条件出し等を進め、研究を進める予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件