【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.15】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24TT0022

利用課題名 / Title

第37回半導体プロセス実習・講習会の受講

利用した実施機関 / Support Institute

豊田工業大学 / Toyota Tech.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

実習・講習会、サーモパイル、MEMS,光学顕微鏡/ Optical microscope,センサ/ Sensor,リソグラフィ/ Lithography

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

山村　 勇太

所属名 / Affiliation

矢崎部品株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

大槻浩,花木美香,中山幸子

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TT-001：スパッタ（金属、絶縁体）蒸着装置
TT-006：マスクアライナ装置
TT-008：洗浄ドラフト一式
TT-011：Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
TT-016：エリプソメーター

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

2023年度に引き続き小規模にて開催された。但し、1日で全てを実施するのではなく、9月12日に講義を半日、13日に実習を１日を使って実施した。定員は昨年度と同じ10名であったが12名を受け付けた。講義は、豊田工業大学の3教員からあった。講義1：「半導体デバイスの基礎」（小島）、講義2：「MOSトランジスタ高性能化技術」（沼田）、講義3：「熱電対を応用したMEMSセンサの基礎と応用」（佐々木）である。

実験 / Experimental

一人１枚ずつ3”ガラス基板を使ってデバイスを試作した。下地クロムのパターン形成とアルミ全面蒸着までを予め用意してあった基板に、レジストパターンを用意してアルミエッチングすることでサーモパイル素子を試作した。レジスト成膜、パターニング、ウェットエッチングの一連のプロセスを実習した。２グループに分かれて進めたが、素子製作をしないグループは、電子ビーム描画装置、酸化・拡散、ドライエッチング、スパッタ成膜装置、段差計などの装置を操作してみる実習を行った。最後に、個々に試作したサーモパイル素子の特性を測定した。

結果と考察 / Results and Discussion

Fig. 1はパターン状にアルミ層をエッチングをしている様子である。この後、レジスト除去を行った。受講者が製作したサーモパイル特性を測定した。冷節点をヒートシンクである鉄板上になるよう配置し、下地から浮いてメンブレン状となった中心部の温接点領域をヒータで加熱した。受講者12名が作った素子はいずれも、温接点の温度に比例した直線状の熱起電力を示したが、熱電対１対当たりの傾きは10～19μV/Kとばらついた。この傾きはSeebeck係数に当たるが、理論値は19.0μV/Kである。Fig.2は実習の事前準備でスタッフが試作したデバイスの特性である。２種のサーモパイル素子で理論値19.0μV/Kに近い値を得ている。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig. 1 Photo of practice for Al etching to fabricate the thermopile.

Fig. 2 Thermoelectric force as the function of temperature (Pre-prototype).

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件