洗浄ドラフト一式
最終更新日：2024年4月8日
| 設備ID | TT-008 |
|---|---|
| 分類 | 表面処理・洗浄 > ウェット処理 |
| 設備名称 | 洗浄ドラフト一式 (Clean draft chambers) |
| 設置機関 | 豊田工業大学 |
| 設置場所 | クリーンルーム |
| メーカー名 | 東朋テクノロジー (Toho Technology Co.) |
| 型番 | 特注 |
| キーワード | ウェット処理。洗浄やウェットエッチングに利用。例えば (1)アンモニア過水（APM）洗浄 (2)塩酸過水（HPM）洗浄 (3)希フッ酸（DHF）洗浄 (4)硫酸過水（SPM）洗浄 |
| 仕様・特徴 | シリコン専用および化合物半導体専用のドラフト群 小型～太陽電池156mm角基板等 |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=TT-008 |
