【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.15】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24TT0016

利用課題名 / Title

静電アクチュエータ製作実習の受講

利用した実施機関 / Support Institute

豊田工業大学 / Toyota Tech.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

アクチュエーター/ Actuator,MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,膜加工・エッチング/ Film processing/etching

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

秦　 誠一

所属名 / Affiliation

名古屋大学大学院工学研究科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

葦刈　佑季

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

佐々木実,大槻浩,中山幸子

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術補助/Technical Assistance（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TT-006：マスクアライナ装置
TT-008：洗浄ドラフト一式
TT-011：Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
TT-015：デジタルマイクロスコープ群

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

マイクロ静電アクチュエータに多様される微細な櫛歯構造を、具体的にどう製作するのかを学ぶために博士学生が受講した。実習で製作する櫛歯デザインは幅5µm、長さ40µm、櫛歯横方向のギャップ3µm、利用するSOIはデバイス層60µm、ハンドル層200µmも研究で作りたいものに近く、参考になる。

実験 / Experimental

実習は次のスケジュールで行った。7/31：SOI基板の表面デバイス層をパターニング。ダミー基板に固定してSi垂直エッチングを実施。8/1：裏面ハンドル層をパターニング。ダミー基板に固定してSi垂直エッチングを実施。Fig.1は犠牲層エッチングに進んで良いか、Siエッチングが埋込酸化膜まで到達したかの見極めをしている様子である。8/2：午前で犠牲層エッチング。午後はアクチュエータの動作確認。

結果と考察 / Results and Discussion

Fig.2に製作した静電アクチュエータ（左右2つ）を示す。印加電圧35Vで約5μmの変位が図の上方向に得られた。駆動電圧Vの2乗に比例する、理論通りの特性であることも確認できた。これは櫛歯のパターニングが良質であったことを裏付ける。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig.1. Checking whether etching has reached the buried oxide film

Fig.2.  Fabricated electrostatic actuators

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

試作チップは持ち帰った。

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件