【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.30】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT1237
利用課題名 / Title
ガラス基板の金属蒸着による鏡面加工
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
ITO膜,センサ/ Sensor,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,スパッタリング/ Sputtering
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
所 裕子
所属名 / Affiliation
筑波大学数理物質系
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
長島俊太郎
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
落合幸徳,水島彩子,井上友里恵
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
表面にITO膜が成膜されたガラス基板の反対面にAl蒸着を行い、ITO膜面から見た時に鏡面となるように加工すること。
実験 / Experimental
ITO成膜ガラス基板は、3 x 2.5 cm（厚み1 mm）のものを使用した。ITO膜面と反対面を上側に配置し、カプトンテープでガラス基板を固定し、Al膜（膜厚ca. 200 nm）をスパッタ法により成膜した。
結果と考察 / Results and Discussion
図1のように、ガラス基板表面にAl膜を成膜することができた。ITO膜面側から見ると鏡面の様になっていることを確認した。今後は、電気化学合成法を用いて、ITO膜面側に金属錯体試料を電解成膜し、反射配置の光学物性測定を行う予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1. Al成膜を行ったITO成膜ガラス基板.
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件