【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.03.24】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT1046
利用課題名 / Title
ファンデルワールス物質の高周波応答と非線形応答
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
スパッタリング/ Sputtering,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,トポロジカル量子物質/ Topological quantum matter,原子薄膜/ Atomic thin film,スピントロニクス/ Spintronics,量子効果/ Quantum effect,超伝導/ Superconductivity,量子効果デバイス/ Quantum effect device
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
井手上 敏也
所属名 / Affiliation
東京大学物性研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
田中未羽子,Abdul Ahad,青木俊太,Yangsong Chen,コラック尚芸仁平,石井智博
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-701：川崎ブランチスパッタリング装置
UT-505：レーザー直接描画装置 DWL66+2018
UT-606：汎用平行平板RIE装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
異方的原子層半金属にコンタクトを取るためにRIEとスパッタを利用した。またマイクロ波共振器作製のために光リソグラフィとRIEを利用した。
実験 / Experimental
異方的原子層半金属に低いコンタクト抵抗で電極作製をするためにRIE時間、逆スパッタリング時間の最適化を行った。またマイクロ波共振器作製のためにRIE条件の特定を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
逆スパッタリングの時間を最適化することで異方的原子層物質に100 Ohm以下のコンタクト抵抗で電極作製をすることができた。その試料で整流効果の測定を行い、試料端に起因する特異な整流効果を観測した。またマイクロ波共振器はRIE条件を最適化し、またサイドエッチング幅を考慮したデザインを行うことで、Q~100000のものを作製できた。共鳴周波数はシュミレーションと一致した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１ フォトリソグラフィ、RIEで作製したマイクロ波共振器。基板はシリコン、マイクロ波共振器はNbである。
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件