【公開日：2025.06.16】【最終更新日：2025.04.17】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT0285

利用課題名 / Title

ガラスの微細加工

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

ガラス, 加工,電子顕微鏡/Electron microscopy,イオンミリング/Ion milling

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

吉﨑 れいな

所属名 / Affiliation

東京大学

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-103：高分解能走査型電子顕微鏡
UT-153：クロスセクションポリッシャー(CP)

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

ガラス内に形成した超高アスペクト比の微細孔の断面を観察することを目的とした．新加工法の開発によって，ガラス内に直径5μm未満，深さ500μm以上の超微細孔を加工した．その孔の微細な断面を観察するために，断面の切り出しと断面の電子顕微鏡による観察を実施した．

実験 / Experimental

新加工法で微細深孔を30 μm間隔で加工したガラスサンプルを用意し，クロスセクションポリッシャーに入るサイズに割断した．クロスセクションポリッシャーにより，孔加工を施した断面を削り出した．最後に断面を電子顕微鏡によって観察した．

結果と考察 / Results and Discussion

クロスセクションポリッシャーによって，孔の断面を，最大300 μm程度の深さにわたって得ることができた．つまり，テーパ角にして0.6度未満の断面加工が達成された．ただし，孔がアスペクト比100以上の非常に高アスペクト比かつ，径5μm以下であったため，深さ500 μmにわたる完全な断面を得ることはできなかった．また，クロスセクションポリッシャーによって孔の断面が一部ダメージを受けたため，断面を得る前の孔内部の状態を電子顕微鏡で観察することは難しかった．

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

作成・観察された微細孔の断面

70度の方向から観察された断面．クロスセクションポリッシャーによるダメージの痕跡が確認できる．

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件