クロスセクションポリッシャー(CP)
最終更新日：2024年4月5日
| 設備ID | UT-153 |
|---|---|
| 分類 | 微小加工装置 > イオンミリング（断面加工） |
| 設備名称 | クロスセクションポリッシャー(CP) (Cross Section Polisher) |
| 設置機関 | 東京大学 |
| 設置場所 | 東京大学浅野キャンパス工学部9号館 |
| メーカー名 | 日本電子株式会社 (JEOL Ltd.) |
| 型番 | JEOL SM-090010JEOL SM-090020 |
| キーワード | アルゴンイオンミリング 断面作製 無機・有機複合材料 |
| 仕様・特徴 | □ 主な特徴 表面に対して垂直な断面が制作可能。 □ 主な仕様 イオン加速電圧：2 ～ 6 kV イオンビーム径半値幅：500 μm（加速電圧：6kV, 試料：Si） ミリングスピード：1.3 μm/min以上（加速電圧：6kV, 試料：Si） 最大搭載試料サイズ：11mm×9mm×2mm 試料移動範囲：X軸±3mm Y軸：±3mm 試料角度調節範囲：±5° 使用ガス：アルゴンガス |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=UT-153 |
