【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.05.06】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24OS0020
利用課題名 / Title
外部機関との連携による分析体制構築の検討
利用した実施機関 / Support Institute
大阪大学 / Osaka Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-
【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials(副 / Sub)-
キーワード / Keywords
電子顕微鏡/ Electronic microscope
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)
菅野 智士
所属名 / Affiliation
徳島大学 技術支援部
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
(主 / Main)技術代行/Technology Substitution(副 / Sub),機器利用/Equipment Utilization
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
OS-007:材料系電子顕微鏡用試料作製装置群
OS-003:200kV原子分解能走査透過分析電子顕微鏡
報告書データ / Report
概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本学で解決が困難な分析に対応するため、外部機関(大阪大学超高圧電子顕微鏡センター)との連携による体制構築が可能か検討した。
実験 / Experimental
本学及び大阪大学超高圧電子顕微鏡センターの機器を利用して、試料作製~TEM原子分解能像取得が可能か検証した。今回は、実験用サンプルとしてサファイア基板上に作製した窒化アルミ薄膜を用いた。
実験として、本学にてサンプルの成形・機械研磨までを行い、大阪大学超高圧電子顕微鏡センターにてイオンスライサー(OS-007)によるサンプル薄片化、原子分解能TEM観察(OS-003)を実施した。
結果と考察 / Results and Discussion
試料作製に関しては、イオンスライサーを用いた薄片化を問題なく進めることができ、特に大きな支障なく作業を完了することができた。さらに、透過型電子顕微鏡(TEM)による観察においても、特段の問題は発生せず、窒化アルミの原子分解能像の取得に成功した。今回は、大阪大学超高圧電子顕微鏡センターの機器を2日間にわたり利用し、当初の目的を達成することができたため、今後の分析においても外部機関との連携を活用することで、効果的な分析体制の構築が可能であると考える。
しかしながら、イオンスライサーを用いた薄片化の工程においては、失敗することも少なくなく、安定した分析結果を得るために、歩留まりの向上が課題となる。今後は、さらなる対策を講じることで、より高い再現性と効率的な試料作製を実現する必要があると考える。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)
本実験の遂行にあたり多大なご協力を賜った大阪大学超高圧電子顕微鏡センター特任教授 市川聡氏に深謝致します。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件