【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.01】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24MS5022
利用課題名 / Title
薄膜をスパッタコートしたカンチレバの作製と評価
利用した実施機関 / Support Institute
自然科学研究機構 分子科学研究所 / IMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
AFM,カンチレバー,スパッタ,段差計
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
中本 圭一
所属名 / Affiliation
分子科学研究所 機器センター
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
高田 紀子
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
原子間力顕微鏡AFMで使用されるカンチレバーに、さまざまな薄膜をコートすることにより、探針増強効果、耐摩耗性、導電性などの付加的機能を与えられる。カンチレバー探針への薄膜コートはスパッタを用いておこなうが、コートする厚みを正確に制御するためにスパッタレートを測定する必要がある。
実験 / Experimental
SiO2とITO膜のスパッタレートを測定するために下記の条件下でスパッタ時間を変えてMS-101マスクレス露光装置の装置群にある段差計を用いて膜厚を測定した。スパッタ成膜条件成膜ガス： Ar 50sccm成膜時ガス圧： 1Pa成膜RF電力： 100W 触針式膜厚計2)を用いて膜厚の測定を行い、スパッタレート8.54nm/secの結果が得られた。
結果と考察 / Results and Discussion
SiO2の成膜では、スパッタ時間を1min, 2min, 5min, 10minとしてスパッタと行い膜厚を測定した。Fig. 1に測定結果を示す。スパッタ時間と膜厚は良い直線関係にあり、スパッタレートは、0.26nm/secの結果を得ることができた。
ITOの成膜では、スパッタ時間を45sec, 90sec, 180secとしてスパッタと行い膜厚を測定した。Fig. 2に測定結果を示す。スパッタ時間と膜厚は良い直線関係にあり、スパッタレートは、1.18nm/secの結果を得ることができた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 SiO2成膜のスパッタ時間と膜厚の関係
Fig. 2 ITO成膜のスパッタ時間と膜厚の関係
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件