マスクレス露光装置
最終更新日：2024年4月9日
| 設備ID | MS-101 |
|---|---|
| 分類 | リソグラフィ > 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 設備名称 | マスクレス露光装置 (Maskless Lithography System) |
| 設置機関 | 自然科学研究機構 分子科学研究所 |
| 設置場所 | 分子研 明大寺地区 |
| メーカー名 | ナノシステムソリューションズ (NanoSystem Solutions) |
| 型番 | DL-1000 |
| キーワード | 光露光（マスクレス、直接描画） |
| 仕様・特徴 | 【付帯設備】 精密温度調整機能付クリーンブース マスクアライナー（ミカサ社製MA-10） スピンコーター（ミカサ社製MS-A100） |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.go.jp/user_report.php?keyword=MS-101 |
