【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.15】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24TU0136
利用課題名 / Title
高耐熱白金薄膜の形成
利用した実施機関 / Support Institute
東北大学 / Tohoku Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
石橋 孝裕
所属名 / Affiliation
北陸電気工業株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
森山雅昭
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
TU-164：酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
TU-306：Tencor 段差計
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
高耐熱薄膜の形成のため、白金薄膜上に異種材料を成膜する。
実験 / Experimental
東北大学試作コインランドリのRTA付高温スパッタ装置を用いて、白金薄膜上(シリコンウエハ)に異種金属を成膜する。
<成膜条件>
基板加熱温度：150℃狙い
Ar圧力：0.8 Pa
成膜出力：120 WDC
<成膜レート確認方法>
テープによる段差測定
結果と考察 / Results and Discussion
成膜レートは10.6 nm/minとなり、シリコンウエハ白金薄膜上に異種金属が正常に成膜されていることを確認した。
白金へ異種材料を拡散させるため、今後、自社設備にて熱処理を実施予定である。（拡散状態はGD-OESにて分析評価実施。）
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件