利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.05.09】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24TU0217

利用課題名 / Title

メタマテリアルのガス分析応用

利用した実施機関 / Support Institute

東北大学 / Tohoku Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

センサ/ Sensor,メタマテリアル/ Metamaterial,光リソグラフィ/ Photolithgraphy


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

猪股 直生

所属名 / Affiliation

東北大学大学院工学研究科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TU-058:マスクレスアライナ
TU-057:レーザ描画装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

本研究では,THzメタマテリアルを用いて高感度かつ高選択的に生体ガスを検出・分析できるデバイスの開発を行う.生体高分子が有する物質固有のTHz分光スペクトルとメタマテリアルの融合により,従来技術の課題を解決する革新的な計測技術を創出し,日常生活を阻害しない健康モニタリングの実現による健康・安心・安全な社会に貢献する.

実験 / Experimental

反応性イオンエッチングによるメタマテリアルのパターニングに必要なフォトレジストマスクの形成

結果と考察 / Results and Discussion

シリコン基板上に2000 rpmで塗布したポジ型フォトレジストOFPR800LB-34cpに対して,2種の露光装置を試した.レーザ描画装置(TU-057)において,focus:-35~-15(5刻み),intensity:20~40(5刻み)の条件を試し,focus:-20,intensity:40が最適値であった.マスクレス露光装置(TU-058)において,dose:80~150(10刻み)の条件を試し,dose:100が最適値であった.これらの露光条件を用いたレジストパターンをマスクとして,反応性イオンエッチングによるアスペクト比50のシリコンピラー構造の作製を試みたが,ピラーにテーパが生じ,アスペクト比20程度のピラー構造になった.これはレジストマスク自体のテーバの影響だと考えられる.今回は露光強度のみを条件出しパラメータとしたが,焦点位置など他のパラメータも条件出しに加える必要がある.

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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