【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.27】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24NR0071
利用課題名 / Title
有機塗布膜の耐久性評価
利用した実施機関 / Support Institute
奈良先端科学技術大学院大学 / NAIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
NR-703:微細形状測定装置(Kosaka Laboratory ET200),有機薄膜,膜厚,段差計
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
水野 斎
所属名 / Affiliation
富山県立大学 情報工学部
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
清水 洋,髙下 泰子,家 仁美,佐山 美奈子,小池 徳貴
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本研究は，植物工場における温室の窓やビニールハウスに有機薄膜を貼り付けたとき，フィルムとしての耐久性がどの程度あるかを評価することを目的としている。有機半導体材料として（チオフェン/フェニレン）コオリゴマー（TPCO）の一種である5,5'bis(4'-cyano-biphenyl-4-yl)-2,2'-bithiophene（BP2T-CN）を用い，BP2T-CNをポリメチルメタクリレート（PMMA）に分散させた薄膜をガラス基板上に形成させ，この薄膜に対して光照射及び水を噴霧した後の光吸収スペクトルを測定することにより，水に対して耐久性があるのかを評価することを目的とした。また，ヒーターを用いて50-60℃まで温度上昇させた状態で水を噴霧したときの光吸収スペクトル測定により耐久性を評価することも目的とした。
実験 / Experimental
BP2T－CNをテトラヒドロフラン（THF）に溶解させた飽和溶液を作製し，これとPMMAをTHFに10-30 mg/mLの濃度で溶解させた溶液を１：１の比率で混合したものを準備した。スピンコートの条件を変化させて5 cm角のガラス基板上にBP2T-CNのPMMA分散膜を形成させた結果，約1-4 μmの厚みを持つ膜が得られた。
結果と考察 / Results and Discussion
ガラス基板上に形成されたBP2T-CNのPMMA分散膜を水中に10秒間浸漬させる前後の光吸収スペクトルの吸光度に変化が見られなかったことから，水に対する耐久性は確認できた。しかし，共同研究先の企業での有機膜に対する光照射や水の噴霧の影響などの評価については，社内事情により評価が開始できていないため，今後検証を続けていく予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
ガラス基板上に成膜したBP2T-CN:PMMA膜．
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
奈良先端科学技術大学院大学 ﾏﾃﾘｱﾙ研究ﾌﾟﾗｯﾄﾌｫｰﾑｾﾝﾀｰNAISTマテリアル先端リサーチインフラ事業を利用して，有機薄膜の厚み計測をさせていただきました。この場を借りて感謝申し上げます。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件