【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.07】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24NU0218

利用課題名 / Title

光学素子の作成

利用した実施機関 / Support Institute

名古屋大学 / Nagoya Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

センサ/ Sensor,フォトニクスデバイス/ Nanophotonics device,走査プローブ顕微鏡/ Scanning probe microscope,膜加工・エッチング/ Film processing/etching

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

澤野 亮介

所属名 / Affiliation

ソニーグローバルマニュファクチャリング＆オペレーションズ株式会社　

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NU-226：RIEエッチング装置
NU-204：原子間力顕微鏡

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

ドライエッチングによる狙いの曲率半径を持つマイクロレンズアレイの石英基板上への作製。

実験 / Experimental

狙いの曲率半径をもつマイクロレンズを作製するためには、エッチング装置ならびにレシピによるレジスト・石英のエッチングレートならびに選択比を把握しておく必要がある。そのため、サンプル作製の前にレジストならびに石英のレート確認を行った。その結果を基に、石英基板上へ形成するレジストパターンのサイズを調整しサンプル作製用の本番エッチングを行った。

結果と考察 / Results and Discussion

事前の確認により得られたエッチングレートならびに選択比の情報を基にレジストパターンの調整とエッチング時間を設定することにより、狙いの範囲内での曲率半径を持つマイクロレンズアレイを作製することができた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件