【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.03.12】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UE5374
利用課題名 / Title
酸化物薄膜およびその原料の物性評価
利用した実施機関 / Support Institute
電気通信大学 / UEC
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
光デバイス/ Optical Device,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
佐野 洋平
所属名 / Affiliation
日亜化学工業株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
北田 昇雄,中村 亮,海野 弘貴
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UE-018：精密構造解析用X線回折装置
UE-020：超伝導量子干渉型磁束計
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
基板塗布型の酸化物薄膜に関する研究を実施. 酸化物薄膜およびその原料の物性評価により、より高い性能・機能をもつ薄膜形成をめざす. まずは参照実験として、市販の塗布材料を用いて磁性薄膜サンプル（Bi1Y2Fe5O12）を作成し、超電導量子干渉型磁束計（SQUID MPMS3）および精密構造解析用X線回折装置（XRD）による磁化特性評価および構造解析を実施した.
実験 / Experimental
ガラス基板上に磁性薄膜を塗布成膜し、磁性評価用サンプルに適したサイズの正方形形状(面直磁化測定用 2x2 mm)に成形した. 磁性評価用サンプルをサンプルホルダーにセットし、SQUID MPMS3による面直方向の磁化特性評価を実施. また、構造解析評価用基板サンプル（10x10 mm基板）を自動交換装置にセットし、XRDによる構造解析を実施.
結果と考察 / Results and Discussion
磁性薄膜サンプルの面直磁化測定を実施したところ、飽和磁化 55 emu cm-3を示し、同一条件で処理した磁性薄膜の文献値1とほぼ一致した.（図1.） また、構造解析評価用基板サンプルのX線回折を測定したところ、信号は弱いが磁性薄膜由来のピークが観測された.（図2.） 観測された主要なピークは、結晶構造データベースに登録されているBi1Y2Fe5O12の回折角2とよく一致した. これらより、ガラス基板上にBi1Y2Fe5O12磁性薄膜が形成していることを確認することができた.
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1. SQUID MPMS3による磁化特性評価結果
図2. XRDによる構造解析結果
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
参考文献：
1. 「粉体および粉末冶金」第39巻11号, 996-998
2. ICSD PDF 04-024-4926
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件