利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.03.12】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24UE0323

利用課題名 / Title

MPCVDダイヤモンドの評価

利用した実施機関 / Support Institute

電気通信大学 / UEC

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials(副 / Sub)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed

キーワード / Keywords

ナノカーボン/ Nano carbon,電子顕微鏡/ Electronic microscope,エレクトロデバイス/ Electronic device


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

塚本 貴広

所属名 / Affiliation

電気通信大学 大学院情報理工学研究科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

山崎 翔平,山本 翔太

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

北田 昇雄,三崎 亜衣

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UE-006:顕微レーザーラマン分光計
UE-011:電子線元素状態分析装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

Si基板上に形成したダイヤモンドにおけるSi不純物の取り込みを電子線元素状態分析装置を用いて評価した。また、ボロンをドーピングしたダイヤモンドをSi基板上に形成して、その結晶性や歪評価を顕微レーザーラマン分光計を用いて行った。

実験 / Experimental

マイクロ波プラズマ化学気相堆積法により、Si基板上にダイヤモンドを形成した。作製したサンプルにおいて、電子線元素状態分析装置を用いて元素分析を行った。次に、ボロンをドーピングしたダイヤモンドをSi基板上に形成して、顕微レーザーラマン分光計を用いて結晶の評価を行った。

結果と考察 / Results and Discussion

電子線元素状態分析装置の結果をFig. 1に示す。この測定から、Siがわずかに検出されたが、その他の不純物は確認されなかった。顕微レーザーラマン分光計の結果をFig. 2に示す。この結果から、ダイヤモンドへのボロンのドーピングが行われていることを確認した。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig. 1Si基板上ダイヤモンドの元素分析



Fig. 2 Si基板上ボロンドープダイヤモンドのラマンスペクトル


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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