【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.11】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24HK0153
利用課題名 / Title
触媒電極モデルサンプルのPLD成膜
利用した実施機関 / Support Institute
北海道大学 / Hokkaido Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
X線回折/ X-ray diffraction,電極材料/ Electrode material,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
竹口 雅樹
所属名 / Affiliation
物質・材料研究機構
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
中村 圭佑,松尾 保孝
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ペロブスカイト触媒電極は水電解アノード電極として注目を集めている。本研究ではモデル電極としてSrTiO3基板に対してPLDによってLaNiO3エピタキシャル膜を成膜し、表面構造の高分解能STEM観察解析に用いる。
実験 / Experimental
SrTiO3(100)基板基板上にLaNiO3ターゲットを用いてPLD装置にて成膜を行った。まずSrTiO3基板はアルコールおよびフッ酸で前処理を行い、乾燥後、PLD装置に導入した。PLD装置の真空内にて800℃でプレアニールし、基板温度650℃+酸素分圧2Paにて成膜（厚さ40nm設定）を実施した。成膜中はRHEEDを用いてモニターした。PLD条件としてレーザー強度およびパルス周波数を変え、3種類の条件の成膜を実施した。成膜後、酸素分圧10Paでのポストアニールを行った。成膜後、XRD装置にて膜の結晶性・配向性などを確認した。成膜サンプルはNIMSにてFIB断面試料加工を行い、TEM観察にて膜評価を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
3つのサンプルのうち1つについてFIB断面試料加工を実施し、TEM観察を行った結果、目的通りSrTiO3(100)基板にLaNiO3は(100)配向でエピタキシャル成長をしていることが確かめられた。膜厚も概ね設定どおりの40nmであった。まだ成膜した3つのサンプル全てをTEM評価できていないが、今後、3つのサンプル評価結果により成膜条件の違いなどを確認する予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件