【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.09】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24HK0050
利用課題名 / Title
空間位相変調器を用いた光干渉リソグラフィに関する研究
利用した実施機関 / Support Institute
北海道大学 / Hokkaido Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
光学顕微鏡/ Optical microscope,センサ/ Sensor,リソグラフィ/ Lithography,光リソグラフィ/ Photolithgraphy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
清水 裕樹
所属名 / Affiliation
北海道大学 大学院工学研究院 機械・宇宙航空工学部門 精密計測学・ロボティクス研究室
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
高廣望
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
アグス先生
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本研究では，レーザ光を分割重畳して生成する干渉パターンを利用した光干渉リソグラフィに対して，空間位相変調を導入することで，従来手法では実現が困難であった自由パターンの露光実現を試みるものである．この露光実験に用いるレジスト基板の作成に，マテリアル先端リサーチインフラ事業所有の装置を利用した．
実験 / Experimental
本研究では，レーザ光を分割重畳して生成する干渉パターンを利用した光干渉リソグラフィに対して，空間位相変調を導入することで，従来手法では実現が困難であった自由パターンの露光実現を試みるものである．非直交型ロイドミラー干渉計で生成した干渉定在波をガラス基板上のレジスト膜に転写して現像を試みた．両面マスクアライナ（HK-702）に付属のスピンコータにより，１辺20mmのガラス基板にフォトレジスト膜をスピンコートするとともに，これをベークして露光基板を作成した．その後，当研究室所有の光干渉リソグラフィ装置により微細パターンの一括露光を試みた．
結果と考察 / Results and Discussion
まず，非直交型ロイドミラー干渉計中のサブビーム１にのみ均一な位相変調を与えて干渉縞生成を試み，位相変調量の制御により干渉縞シフトが可能であることを実験的に確認した．さらに，サブビーム１に対して場所毎に２次関数的に変化する位相変調を与えて露光を試み，不等ピッチラインパターンが生成可能であることを実験的に明らかにした．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
光干渉リソグラフィで生成した波状パターン
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- N. Takahiro and Y. Shimizu, "A non-orthogonal Lloyd's mirror interferometer with a spatial light modulator for arbitrary pattern fabrication", Proceedings of ICPE2024, 2024/10/25
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件