【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.19】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24HK0034
利用課題名 / Title
プラズマプロセシングで作成したコアシェル微粒子の分析
利用した実施機関 / Support Institute
北海道大学 / Hokkaido Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
エネルギー貯蔵/ Energy storage,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,電子顕微鏡/ Electronic microscope,スパッタリング/ Sputtering
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
佐々木 浩一
所属名 / Affiliation
北海道大学大学院工学研究院応用量子科学部門
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
Munaswamy MURUGESH
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
大久保 賢二
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
HK-102：電界放射型分析電子顕微鏡
HK-103：マルチビーム超高圧電子顕微鏡
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
液体スズをコア部，水素化アモルファス炭素膜をシェル部とするコア・シェル微粒子をダストプラズマの原理を活用したマグネトロンスパッタリング法で作成し，その透過電子顕微鏡像を取得すると共に，元素組成を分析する。このようなコア・シェル微粒子は潜熱蓄熱材として利用できる可能性がある。
実験 / Experimental
作成したコア・シェル微粒子を大気に晒した後に電子顕微鏡に搬送し，透過電子顕微鏡像および電子線回折像を取得すると共に，元素組成を分析した。
結果と考察 / Results and Discussion
プラズマの生成条件によるシェル部のモルフォロジー変化の概要が理解できた。また，シェル部はシェル部よりも酸素を多く含有すること，および，シェル部にもスズが混入していることが明らかになった。コア部の酸化は軽微であり，電子線回折像はアルファスズの電子線回折像をあらわしていた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
特になし
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
-
Munaswamy Murugesh, Synthesis of core–shell nanoparticles with liquid core using magnetron sputtering and capacitively coupled dusty plasmas, Japanese Journal of Applied Physics, 63, 056003(2024).
DOI: 10.35848/1347-4065/ad483d
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件