利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.04.03】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24KT0034

利用課題名 / Title

マイルドプラズマ表面処理によるPFA-Cu接合界面の分析

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

電子顕微鏡/ Electronic microscope,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

宮本 光貴

所属名 / Affiliation

島根大学 材料エネルギー学部

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

治田充貴

利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術代行/Technology Substitution(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-403:モノクロメータ搭載低加速原子分解能分析電子顕微鏡


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

独自の『マイルドプラズマ(以下MP)』技術は,高密度の官能基付与に特化した表面改質技術であり,フィルムや粉体材料表面に照射することで表面の性質の制御が期待されている.本研究ではMP処理により接合したPFA-Cu界面の微細組織観察,STEM-EDS, EELS分析を行い,MP処理の効果のメカニズムを原子レベルのミクロな視点から解析することを目指す.

実験 / Experimental

MP処理により接合したPFA-Cu試料を,FIB加工により薄膜化した試料のSTEM-EELS分析,およびSTEM-EDS分析を行い,組成分布を評価した.

結果と考察 / Results and Discussion

図1は,PFA-Cu接合界面近傍のSTEM-EELS分析の際のHAADF像(a)と分析領域の拡大図(b),および図1(b)中の赤枠領域で囲んだ領域から得られたEELSスペクトル(c)を示している.本分析の範囲内では,界面近傍での水素の存在,およびその分布を確認することはできなかった.また,図2には,STEM-EDS分析によって得られた元素マッピングを示す.界面近傍における各種元素の半定量的な分布を取得することができた.詳細な解析は今後進める予定である.

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


図1 STEM-EELS分析によるPFA-Cu接合界面近傍のHAADF像(a),分析領域の拡大図(b),および図1(b)中の赤枠領域で囲んだ領域から得られたEELSスペクトル(c).



図2 STEM-EDS分析によるPFA-Cu接合界面近傍の各種元素マッピング.


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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