【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.03.27】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24TU0165

利用課題名 / Title

合成石英の微細加工

利用した実施機関 / Support Institute

東北大学 / Tohoku Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

光デバイス/ Optical Device,フォトニクスデバイス/ Nanophotonics device,光導波路/ Optical waveguide,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,膜加工・エッチング/ Film processing/etching

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

村松 聖也

所属名 / Affiliation

日本真空光学株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TU-058：マスクレスアライナ
TU-215：イオンミリング装置
TU-310：レーザ／白色共焦点顕微鏡
TU-305：Dektak 段差計

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

石英基板に微細な加工を行うことは、光学部品の製作において重要な技術である。本課題では石英基板を、エッチングすることによって、形状加工を行った。高精度な加工を行うため、東北大学マイクロシステム融合研究開発センターの設備を利用して微細加工を行った。

実験 / Experimental

レジストを塗布した合成石英基板にマスクレスアライナを用いてレジストパターンを現像した。その後、イオンミリング装置を用いて合成石英基板のエッチング加工を行った。段差評価は白色共焦点顕微鏡を用いた。

結果と考察 / Results and Discussion

作成した合成石英基板のエッチング量評価結果をFig. 1に示す。イオンミリング装置を用いて狙い値948 nmに対し971 nmのエッチング加工を行った。エッチング量の誤差2.4%での加工が可能であることを確認した。また、レジストパターンを形成した部分以外がエッチング加工され、狙い通りの段差が形成されていることがFig. 1から確認できた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig. 1 Result of step measurement by confocal microscopy

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件