【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.03.17】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24KT2380

利用課題名 / Title

リソグラフィーによる回折光学素子DOEの作製とプロセス開発

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

電子線リソグラフィ/ EB lithography,電子顕微鏡/ Electronic microscope,フォトニクス/ Photonics,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,膜加工・エッチング/ Film processing/etching

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

冨士 航

所属名 / Affiliation

株式会社タムロン

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

海津利行,木元信余,沖川　満

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-209：磁気中性線放電ドライエッチング装置
KT-118：高圧ジェットリフトオフ装置
KT-203：電子線蒸着装置
KT-301：超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
KT-115：大面積超高速電子ビーム描画装置

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

従来の光学素子では得られない複合的な機能の発現を目指し、4inch合成石英ウエハ上へサブ波長構造体を形成することを目的とした。プロセスとしてはネガレジストにEB描画・現像後、Cr膜をEB蒸着し、リフトオフ。FE-SEM観察で寸法を確認しながら、所望のサイズとなるよう条件出しを実施した。

実験 / Experimental

4inch合成石英ウエハにEBネガレジストをスピンコート、大面積超高速電子ビーム描画装置f7000s（KT-115）で露光・現像し、パターニングを行い、電子線蒸着装置EB-1200（KT-203）を用いて数十nmCrを成膜、高圧ジェットリフトオフ装置（KT-118）でリフトオフ。その後、磁気中性線放電ドライエッチング装置NLD-570（KT-209）にてサブミクロン深さにエッチバック、寸法確認は超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡SU-8000（KT-301）を利用した。

結果と考察 / Results and Discussion

当初、ビーカーと超音波洗浄機を用いた手動でのリフトオフを行っていたが、一部、Cr膜やレジストなどの屑がウエハ上に残存する不安定な課題があった。Fig.1へ手動リフトオフ後のSEM写真を載せる。 そこで、高圧ジェットリフトオフ装置での自動リフトオフを利用したところFig.2に示すように残存屑が低減した結果を得ることが出来た。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig.1 Manual lift-off

Fig.2 Automatic lift-off

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件