【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.22】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24TT0037
利用課題名 / Title
生体試料パターニング用基板の作製
利用した実施機関 / Support Institute
豊田工業大学 / Toyota Tech.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）次世代バイオマテリアル/Next-generation biomaterials
キーワード / Keywords
バイオ分子固定, ナノパターニング,電子線リソグラフィ/ EB lithography
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
熊谷 慎也
所属名 / Affiliation
名城大学 理工学部電気電子工学科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
生体試料がもつ特性を有効に活用するには、生体試料を基板上にパターニングする技術が欠かせない。本研究では、生体試料として、たんぱく質分子をターゲットとして、そのパターニングに必要な基板の作製を試みた。タンパク質分子は、ナノメートルオーダーの大きさであることから、微小パターニングのできる電子線描画装置を用いて、パターニング用の基板作製を試みた。
実験 / Experimental
電子線描画装置を用いて、ナノスケールの微細パターンの作製を行う。希釈した電子線レジストをシリコンウェハ上に滴下し、スピンコートすることで、薄膜の電子線レジスト膜を形成する。ナノスケールの描画パターンを得るため、電子線ビームのドーズ量を変えて、露光を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
希釈率およびスピンコートの条件を調節し、膜厚約50nmの電子線レジスト膜を製膜することができた。ドーズ量を調節したところ、今回の検討では、15～20 nmのドットパターンを形成することができた。その後、Au/Crを蒸着し、リフトオフを行った。電子線レジストとほぼ同じ大きさの、15～20 nmのドットパターンを得ることができた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件