【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.03.24】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24BA0045
利用課題名 / Title
スーパーキャパシタの作製
利用した実施機関 / Support Institute
筑波大学 / Tsukuba Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion
キーワード / Keywords
二次電池/ Secondary battery,エレクトロデバイス/ Electronic device,電子分光/ Electron spectroscopy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
鈴木 義和
所属名 / Affiliation
筑波大学数理物質系
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
森本悠介
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
X線高電子分光を用いて、NiとCoの電子状態計測を行った。
実験 / Experimental
X線高電子分光を用いて、添加剤の有無によるNiとCoの電子状態の変化を詳細に計測した。遷移金属の価数状態を決定するためのX線光電子分光法（XPS）測定は、Mg-Kα X線源（1.254 keV）を備えたJPS 9010 TR（JEOL）を使用して実施された。
結果と考察 / Results and Discussion
表面状態をより詳細に調べるために、ガウスフィッティング法を使用して、Ni、Co、およびOのフィッティングを行った。Ni2p3/2とNi2p1/2のスピン軌道ピークは、それぞれ約854 eVと873 eVで確認された。これらのスピン軌道ピークをフィッティングすると、pH3_U10とpH6_U10の両方で、おそらくNi3+によるピークが853 eVと870 eVに、Ni2+によるピークが854 eVと872 eVに観測された。同様に、Coについては、Co2p3/2とCo2p1/2によるスピン軌道ピークがそれぞれ779 eVと794 eVで確認され、Co3+によるピークは778 eVと793 eVで確認され、Co2+によるピークは779 eVと794 eVで確認された。これらの結果は、電極表面のNiCo2O4にはNi2+（および微量のNi3+）、Co2+、およびCo3+が含まれていることを示唆している。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 論文1報投稿中
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件