利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.03.17】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24KT2153

利用課題名 / Title

MEMS メンブレン構造を用いた環境センサの開発

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

メンブレン,切削,ダイシング/ Dicing,センサ/ Sensor,MEMS/NEMSデバイス/ MEMS/NEMS device


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

樋口 徹

所属名 / Affiliation

ローム株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

山城宏介,竹村拓樹

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-218:レーザダイシング装置
KT-221:紫外線照射装置
KT-222:エキスパンド装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

スマートフォンなど小型機器への環境センサ搭載が期待されている。MEMS メンブレン構造は薄膜構造体で耐久性が低いため、個片化は切削水によるメンブレン破損のリスクを避けるためにレーザダイシングを用いている。

実験 / Experimental

メンブレンを含むウェハを自社工場で作製した。ダイシングストリート上にメタルなどのパターンを配置しているとレーザーダイシングの照射に影響を与えてしまうが、影響を受けないようにするためスクライブ上にパターンを配置しないレイアウトとしている。このレイアウトで個片化できることを前回確認済みであるが、実績がまだワーク 1 枚分のみであり、N 増しが必要である。今回、13 枚分のワークを自社工場で作製した。ナノハブ拠点のレーザダイシング装置(KT-218)で加工を行った後、エキスパンド装置(KT-222)およびに紫外線照射装置(KT-221)でチップの個片化を行い、状態を確認した。

結果と考察 / Results and Discussion

各チップ中央部には脆弱部であるメンブレンが配置されているが、全 13 枚いずれもエキスパンド処理後にメンブレンの破損は見られなかった。また、ワーク全体でチップの個片化が問題無くできていた。スクライブライン上にパターンを配置していた過去のレイアウトでは完全に個片化できたワークは存在しなかったが、レイアウト変更後のワークでは(前回確認分も含めて)累計 14 枚分の完全個片化実績を積むことができた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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