【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.02】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24OS1006
利用課題名 / Title
電離放射線用金属含有レジストの反応機構の解明
利用した実施機関 / Support Institute
大阪大学 / Osaka Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
レジスト材料,電子顕微鏡/ Electronic microscope
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
古澤 孝弘
所属名 / Affiliation
大阪大学産業科学研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
半導体製造において電離放射線領域にある極端紫外光によるリソグラフィが実現され、これまで露光源の短波長化が進められてきた微細加工分野はついに電離放射線時代に突入した。しかしながら、電離放射線は透過力が高く、材料へのエネルギー付与効率が極めて低い。微細加工分野において電離放射線利用をさらに拡大するために、電子線リソグラフィによるレジストパターニング実験を通じて有機金属薄膜に電離放射線が誘起する化学反応の解明を行う。
実験 / Experimental
加速エネルギー125 keVの超高精細電子ビームリソグラフィ―装置で電離放射線用金属含有レジストのパターニング評価を行う。
結果と考察 / Results and Discussion
金属ユニットの配位子依存性を、反応系を制御した状態で、電子線パルスラジオリシス法等にて、反応経路を特定し、レジスト材料の設計を行った。加速エネルギー125 keVの超高精細電子ビームリソグラフィ―装置で設計した電離放射線用金属含有レジストの評価を行うため、評価用パターンのCADデザインを設計した。今後、パターニングを実施し、レジストの改良を行う。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件