【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.21】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT0244
利用課題名 / Title
酸化処理を施したアルミニウムの皮膜構造の解析
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies
キーワード / Keywords
表面処理、構造材料、過酸化水素製造,電子顕微鏡/ Electronic microscope,集束イオンビーム/ Focused ion beam
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
岩崎 文聡
所属名 / Affiliation
東京理科大学大学院創域理工学研究科先端化学専攻
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
寺西亮佑
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
過酸化水素製造プラントの構造材料であるアルミニウムの表面処理方法の開発のため，皮膜表面の構造を観察することを目的とした．
電気化学測定により異なる硝酸濃度で処理したアルミニウム試験片の耐食性に違いが出ることがわかっており，硝酸濃度により耐食性に違いが生じるメカニズムを断面TEM観察により解明する必要があると考えた．
よって，FIB-SEM(UT-156)により硝酸処理アルミニウム試験片の薄膜化を行うために実験を行った．
実験 / Experimental
硝酸で処理したアルミニウムの最表面にタングステン膜を成膜し，FIB加工時の損傷を防止した．30 kV 1nAで厚さが200 nmになるまで，15 kV 30 pAで80 nmになるまで薄膜化を行い，2 kV 10 pAで仕上げを行った．
結果と考察 / Results and Discussion
Fig.1に厚さが400 nmになるまで周囲の削りだしを行った後の試験片表面方向からのSEM画像，Fig.2にFig.1のときの断面方向から観察した際のSEM画像を示す．
また，Fig.3に厚さが150 nmとなるまで薄膜化したときの試験片表面方向からのSEM画像，Fig.4にFig.3のときの断面方向から観察した際のSEM画像を示す．
Fig.2では断面部が暗く見えるが，Fig.4ではその部分が明るくなっていた．これは，試料が薄膜化されたことで電子が透過しやすくなったためだと考えられる．
このように作製された微小試料を用いて断面TEM観察を行うことで，硝酸処理時に形成される皮膜の構造を観察でき，腐食メカニズムの解明につながることが期待される．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 SEM画像(皮膜表面，膜厚400nm)
Fig.2 SEM画像(断面，400nm)
Fig.3 SEM画像(皮膜表面，150 nm)
Fig.4 SEM画像(断面，150 nm)
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件