【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT0189
利用課題名 / Title
磁気スキルミオン物質の合成と物性評価
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
電子顕微鏡/ Electronic microscope
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
肖 英紀
所属名 / Affiliation
秋田大学大学院理工学研究科物質科学専攻
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
B20型構造をもつFeGeは、近年磁気スキルミオン発現物質の観点から注目されている[1]。一般にB20型FeGeは高温高圧合成によって合成されてきたが、B20型FeGeにCrを固溶したFe1-xCrxGeでは、通常の溶融凝固プロセスによるB20構造の形成が報告されている[2]。本研究では、B20構造安定化に寄与するドープ元素を探索し、ドープ元素がB20構造安定化に果たす役割を明らかにすることを目的とした。今回はCrを微量ドープしたB20型構造の単相試料を作製し、その磁性測定を行った。
実験 / Experimental
試料は全てアーク溶解法および真空中熱処理することにより作製した。磁性測定は極限環境下電磁物性計測装置(PPMS)のVSMオプションを用いて実施した。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig.1(a)にFe-Cr-Ge系B20型合金の磁化率の温度依存性、(b)に磁化の磁場依存性を示す。結果から、2元系FeGe(キュリー温度約280 K)と同様に、強磁性体(キュリー温度約250 K)であることを確認した。今後B20型Fe-Ge系合金の物性解明に向けて、重要な成果を得た。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig1. Fe-Cr-Ge系B20型合金の(a) 磁化率の温度依存性および(b) 磁化の磁場依存性．
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
[1] X. Z. Yu et al, Nature Mater. 10, 106-109 (2011). [2] T. Sato et al., J. Phys. Soc. Jpn. 52, 3163-3169 (1983).
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 後藤蛍，肖英紀，「B20型Fe1-xCrxGe合金の合成と評価」，日本金属学会2025年春期(第176回)講演大会，東京都立大学南大沢キャンパス，2025年3月．
- 後藤蛍，肖英紀，「CrドープB20型FeGe合金の合成」，第23回日本金属学会東北支部研究発表大会，弘前大学創立50 周年記念会館みちのくホール，2024年12月．
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件