【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.09】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT0095
利用課題名 / Title
トポロジカル物質の結晶構造解析
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
X線回折/ X-ray diffraction,エレクトロデバイス/ Electronic device,トポロジカル量子物質/ Topological quantum matter
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
久保 光太郎
所属名 / Affiliation
JSR株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-202：高輝度In-plane型X線回折装置
UT-203：粉末X線回折装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
トポロジカル性を有する物質の特性を生かした半導体デバイス向けの材料開発を行うことが目的。金属・半導体・磁性体で得られない物性を持つ、高結晶性、平坦な薄膜を得るためのPVD法による最適成膜条件の探索、並びにその電磁気的な性能の測定を行う。
実験 / Experimental
トポロジカル性を有することを期待する物質をPVD法などにより製膜し、製膜した薄膜をXRD法(SmartLab9kW、3kW)により結晶構造解析、表面観察、組成分析、並びにI-V測定などの物性測定を行うことで、電磁気的な物性値の測定を実施した。その測定結果を元に、成膜条件にフィードバックし、再度製膜し、結晶構造解析や物性測定を行う。その検討ループを回すことによる、最適な成膜条件の探索とトポロジカル性の検証を実施した。
結果と考察 / Results and Discussion
結晶構造解析、表面分析、物性分析結果から、平坦性を持つ薄膜が成膜出来たものの、期待した結晶構造並びに物性の発現は24年度は見られていない。結晶化度が低く、不純物が含まれている結果であった。そのため、想定したトポロジカル性の発現が見られていない。成膜条件最適化し、不純物低減が、今後の課題。今後も最適条件探索を続ける。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件