利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.03.13】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24KT2395

利用課題名 / Title

テラヘルツ反射ミラーの作製

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

テラヘルツ,メタマテリアル,電子線リソグラフィ/ EB lithography,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

廣理 英基

所属名 / Affiliation

京都大学 化学研究所

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

章振亜

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub),技術代行/Technology Substitution


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-203:電子線蒸着装置
KT-115:大面積超高速電子ビーム描画装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

本研究は、高強度テラヘルツパルスの電場および磁場成分を金属メタマテリアルを用いて制御することを目指しています。さらに、超高速レーザー分光技術を活用して、超高速電場応答計測技術の開発に挑戦しています。この目的のために、マスクレス露光装置と真空蒸着装置を使用して、マイクロスケールの金属メタマテリアル構造を作製しました

実験 / Experimental

水晶基板に、マスクレス露光装置(KT-115)を用いてメタマテリアル金属共振器構造のパターンを転写し、その後、化学エッチングでフォトレジストを除去しました。次に、真空蒸着装置(KT-203)を使用して金を蒸着し、アセトンで残存するフォトレジストを除去することで、目的のメタマテリアル構造を得ることができました。

結果と考察 / Results and Discussion

マスクレス露光装置と真空蒸着装置を用いてメタマテリアル構造を作製しました。これにより、印可したテラヘルツ電場を効率的に磁場に変換することが可能となりました。また、電磁波シミュレーション解析を行い、試料の深さにテスラ級のテラヘルツ磁場を発生させることを確認しました。今後は、他の構造を作製することで、電場・磁場の増強効率のさらなる最適化を目指していく予定です。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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