【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.03.17】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24KT2263
利用課題名 / Title
傾斜描画検討
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
電子線リソグラフィ/ EB lithography,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
黒宮 未散
所属名 / Affiliation
パナソニックホールディングス株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
古重 徹
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
海津利行
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-115：大面積超高速電子ビーム描画装置
KT-301：超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡
KT-114：有機現像液型レジスト現像装置
KT-209：磁気中性線放電ドライエッチング装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
電子ビーム（EB）描画装置（F7000S-KYT01）を用いたラインアンドスペース（L/S）の描画において、L/Sの向き（縦方向と斜め方向）、およびL/SのDuty比が異なるパターンが混在したものを一括描画する検討を行った。
実験 / Experimental
電子ビーム（EB）描画装置（KT-115）を利用して、L/Sの向きが縦方向と斜め60度方向の2種類、およびDuty比がL/S＝210nm/210nmとL/S=190nm/130nmの2種類が混在するパターンを一括描画した。250nm厚のレジスト（ZEP520A）を塗布したSiウエハに各種L/Sを描画した後、有機現像液型レジスト現像装置（KT-114）を用いてZED-N50およびIPAにより現像およびリンス処理した。現像後のサンプルを磁気中性線放電ドライエッチング装置（KT-209）でドライエッチングした後、電子顕微鏡（KT-301）によって表面観察した。
結果と考察 / Results and Discussion
図1に、ドライエッチング後のサンプル表面SEM写真を示す。①L/S=210nm/210nmでは、縦方向・斜め方向ともにラインのガタツキが目立たないが、②L/S=190nm/130nmの斜め方向描画では、ラインのガタツキが目立っていた。斜め方向描画において、S幅が広い（210nm）とライン境界のガタツキが目立たないが、S幅が狭い（130nm）とライン境界のガタツキが目立つことが分かった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1_① サンプル表面のSEM写真 ①L/S=210/210nm （左：縦方向描画、右：横方向描画）
図1_② サンプル表面のSEM写真 ①L/S=190/130nm （左：縦方向描画、右：横方向描画）
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件