【公開日：2025.07.15】【最終更新日：2025.07.15】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22SH0012
利用課題名 / Title
水を水素源とする光触媒的水素化反応
利用した実施機関 / Support Institute
信州大学 / Shinshu Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
電子分光,ナノ粒子/ Nanoparticles
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
森 彰吾
所属名 / Affiliation
名古屋大学 物質科学国際センター
共同利用者氏名 / Names of Collaborators Excluding Supporters in the Hub and Spoke Institutes
斎藤進,堂免一成,久富隆史
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Supporters in the Hub and Spoke Institutes
小畑美智子
利用形態 / Support Type
（主 / Main）共同研究/Joint Research（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本実験の目的は光触媒のキャラクタリゼーションを通じて光触媒活性に重要な要素を明らかにすることであった。光触媒に担持された白金やパラジウムの電子状態や凝集状態に関する情報を得るためにXPS測定を実施した。
実験 / Experimental
反応後の光触媒を回収し、再度反応に用いた際、光触媒の失活が観測された。この原因を明らかにすることにより、光触媒活性に重要な要素に関する知見が得られると考えた。そこで、反応の前後の光触媒のXPS解析を実施した。
結果と考察 / Results and Discussion
XPS解析の結果、反応後の光触媒において担持金属である白金やパラジウムの酸化、および凝集が観測された。これらの両方あるいはいずれかが触媒失活の原因であると考えられる。今後はさらなる対照実験を通じて触媒失活の原因を特定し、その知見を基に高活性かつ高耐久性の光触媒の創出を目指す。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
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Shogo Mori, PdPt/SrTiO3:Al-catalysed redox-selective photoreduction of unsaturated carboxylic acids using minimal electron-donor and water, Chemical Communications, 60, 13682-13685(2024).
DOI: https://doi.org/10.1039/D4CC03791J
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- Farzaneh Soleymani Movahed, Shogo Mori, Daling Lu, Takashi Hisatomi, Kazunari Domen, Susumu Saito, Photocatalytic Transfer Hydrogenation from Water to Carbon–Carbon Multiple Bonds of Unsaturated Carboxylic Acids 日本化学会第103春季年会(2023), 2023年3月22–25日
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件