利用報告書 / User's Reports

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【公開日:2025.06.10】【最終更新日:2025.03.17】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

24KT2243

利用課題名 / Title

ドライエッチングによるMLAの作製検討

利用した実施機関 / Support Institute

京都大学 / Kyoto Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

膜加工・エッチング/ Film processing/etching,フォトニクス/ Photonics,微細加工


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

澤野 亮介

所属名 / Affiliation

ソニーグローバルマニュファクチャリング&オペレーションズ株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub),技術代行/Technology Substitution


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

KT-210:ドライエッチング装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

マイクロレンズアレイとは微細なレンズが集積した光学素子で、用途は光通信や照明等多種にわたる。これまで我々のMLA開発は別機関のRIEを用いて実施してきたが、使用装置の故障により一時的に使用不能となった。開発継続のため、京都大学ナノハブ拠点の同型装置を代替えとして使用可能であるかの確認を行った。

実験 / Experimental

石英基板上へレジストにてMLA形状をを作成したサンプルをn=2準備し、それぞれ異なるエッチング時間にてエッチング(KT-210)を行い、レジスト残膜量と石英エッチング量を測定することで、エッチングレートと選択比の算出を実施し、これまでの装置での結果と同等の結果が得られるかの確認を行った。エッチングレシピは、これまで別機関で使用していた装置と同条件に設定をした。

結果と考察 / Results and Discussion

ドライエッチング装置(KT-210)を利用してエッチングしたサンプルを持ち帰り、測定を行った結果、エッチングレート・選択比ともにこれまで使用していた装置と同等の結果が得られることができ、今後の検討に対して問題なく使用できることが確認できた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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