【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.03.10】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24AT0306
利用課題名 / Title
高速重イオンビームによる固体の表面改質
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
センサ/ Sensor,ナノ多孔体/ Nanoporuous material,フォトニクスデバイス/ Nanophotonics device,メソポーラス材料/ Mesoporous material,赤外・可視・紫外分光/ Infrared/visible/ultraviolet spectroscopy,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
粟津 浩一
所属名 / Affiliation
筑波大学数理物質系
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
鬼澤 敦子
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-065：顕微レーザーラマン分光装置(RAMAN)
AT-084：該当設備なし
AT-107：3次元電界放出形走査電子顕微鏡（エリオニクス）
AT-015：該当設備なし
AT-012：該当設備なし
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
高速重イオンビームを非晶質シリカに照射し、その物性変化についてRAMAN分光法などを用いて評価した。またエッチングをすることで潜トラック(latent track)を可視化(etched track)することが可能である。
実験 / Experimental
イオンビームの照射は筑波大学6MVタンデム加速器を用いた。高速重イオンビームを発生させて非晶質シリカに照射を行った。エッチングの前の表面の有機洗浄はNPFの有機ドラフトを用いた。エッチングはフッ化水素酸を用い、ドラフトはNPFの酸アルカリドラフトで実施した。形成された孔の観察はNPFの3D-SEMおよびデジタルマイクロスコープで行った。また構造解析はNPFの顕微ラマン散乱装置を用いた。
結果と考察 / Results and Discussion
ラマン分光より照射を行った非晶質シリカの中距離構造秩序が大きく変化していることがわかった。また2ミクロンずつの深さ方向分析も行なった。またSEM観察により直径30nm長さ1マイクロメートル以上でかつ孔形状のそろった穿孔が可能であることがわかった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
絶縁体のSEM観察では帯電防止が重要となる。NPF内でノウハウを共有していけたらよいかと思いました。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件