【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.04.14】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24AT0160
利用課題名 / Title
ナノインプリントを使用した樹脂へのナノピラー構造形成
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
電子線リソグラフィ/ EB lithography,ナノ多孔体/ Nanoporuous material,電子顕微鏡/ Electronic microscope,メソポーラス材料/ Mesoporous material,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
門井 幹夫
所属名 / Affiliation
リソテックジャパン株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
木塚 優子
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-004：電界放出形走査電子顕微鏡[S4800_FE-SEM]
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ナノサイズの量子ドット構造は、そのピラーサイズや間隔を制御する事により、撥水・親水性、撥油・親油性のコントロールを可能にする事が知られている。こうした技術は、窓材や表層材として、自動車や医療を始め広い分野において応用が期待されている。本課題では、電子線描画装置を用いてSi基板上にナノサイズのホールパターンを形成し、中性粒子ビームエッチング装置によりSi基板上にナノサイズのホール加工を行う事によってインプリントのモールドを作成し、これを用いて樹脂上にナノピラー構造を形成する事を目指している（Fig.1)。
実験 / Experimental
自社で開発したナノインプリント装置により、樹脂表面にナノサイズのドット構造を形成する事ができるかどうかを確認するため、市販のモールドによりPET樹脂上にパターンを形成し、FE-SEMにより観察を行っている。
結果と考察 / Results and Discussion
部分的にではあるが200nmサイズのドット構造を形成できることは判った（Fig. 2）。しかし、モールド全体エリアに渡って均質なパターンを形成する事は出来ていない（Fig.3）。剥離時に問題があるものと考えており、離型剤の選択や諸条件の調整により完全を試みている。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 Process of Nanopillar Formation to Regin
Fig.2 Formation of nano-pillar patterns at a scale of 200 nm on the surface of the PET film
Fig.3 The area where a pattern has failed
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件