【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.01】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT1254
利用課題名 / Title
MBE装置をもちいた星間ダスト形成過程の解明
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
触針式段差計、MBE(分子線エピタキシー),原子層薄膜/ Atomic layer thin film
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
瀧川 晶
所属名 / Affiliation
東京大学理学系研究科地球惑星科学専攻
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
植田遥大,熊井啓太
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
MBE装置で作製した蒸着試料を触針式段差計で膜厚測定をおこない，自研究室の膜厚計の較正をおこなった．
実験 / Experimental
ブルカーDektakXTを用いて，Si基板上に蒸着した鉄の膜厚を測定した．
結果と考察 / Results and Discussion
Kセルを用いて蒸着させた鉄の膜厚を測定した．蒸着時間に対して膜厚はほぼ線形の関係があった．異なる温度での蒸着膜の厚みは，鉄の蒸発依存性を求めた実験（Tachibana et al. 2011）と調和的であった．一方，膜厚計の値とは一部調和的でない結果が生じたため，今後実験数を増やして検証をおこなう．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
Tachibana et al. (2011) The Astrophysical Journal, 736:16 (8pp).
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件