【公開日：2025.06.10】【最終更新日：2025.05.27】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
24UT1249
利用課題名 / Title
電子ビームリソグラフィにより作製したPEDOT:PSSパターンの膜厚評価
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
触針段差計、PEDOT:PSS ,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
寺田 健人
所属名 / Affiliation
東京大学工学部機械工学科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
割澤 伸一（東京大学大学院新領域創成科学研究科）,米谷 玲皇（東京大学大学院新領域創成科学研究科）
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
自研究室の電子ビームリソグラフィにより作製したPEDOT:PSS (Poly(3,4-EthyleneDiOxyThiophene):Poly(4-StyreneSulfonate))パターンの膜厚評価を行った．この評価では，形状・膜厚・電気特性評価装置群（DektakXT）を用いた．
実験 / Experimental
電子ビームリソグラフィによりSiO2/Si基板上に作製したPEDOT:PSS (Poly(3,4-EthyleneDiOxyThiophene):Poly(4-StyreneSulfonate))パターンの膜厚評価を行った．PEDOT:PSSパターンは，SiO2/Si基板上にスピン塗布したPEDOT:PSS膜を，加速電圧 50 kV, ビーム電流 100 pAの電子ビームにより露光し，水を用いて現像することで作製した．作製したパターンはラインパターンであり，このパターン作製での露光幅は1 µmとした．この作製したPEDOT:PSSからなるラインパターンの膜厚を形状・膜厚・電気特性評価装置群（DektakXT）を用いて評価した．
結果と考察 / Results and Discussion
電子ビームリソグラフィによりPEDOT:PSSを露光し得られたラインパターンの膜厚を評価した．測定結果の1例として，露光量 1 mC/cm2で露光し形成されたラインパターンの膜厚は，およそ128 nmであった．獲得した電子ビームリソグラフィによるPEDOT:PSSのパターニング特性に関する基礎的知見は、様々なデバイスの研究開発への展開が可能である．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件